七个人挨个聊了一遍，最后仓耀祖找上了杰克袁，他主要是要交代杰克袁一些事，仓耀祖希望杰克袁联络一下加州大学伯克利分校的胡正明教授。
胡正明被半导体行业誉为“FinFET之父”，仓耀祖找上他，正是要委托他研究一下FinFET技术，目标是解决25纳米之后半导体器件的微细化问题，这个技术的专利仓耀祖必须拿在手里，FinFET技术的细节仓耀祖会整理出一个文档交给胡正明教授，想必这项技术的研发就不会拖那么久了，今年就应该能搞定。
仓耀祖还想以这个研发项目为由，让胡正明教授去燕都一段时间，仓耀祖希望能把胡正明老爷子请去清微半导体担任技术负责人。
胡正明教授前几年还是清大的荣誉教授，仓耀祖希望这次把合作夯实再夯实，把合作深入下去，而不是浮于表面。要知道挖到胡正明教授，不止在技术上好处多多，仓耀祖非常想挖的一个人就是胡教授的关门弟子梁孟松。
梁孟松是湾湾人，研发实力超强，号称半导体行业的吕布，之所以叫吕布，自然是因为他多次叛门跳槽，台积电、三星、华芯国际都留下了他的传说。
现在的梁孟松在台积电并没有那么醒目，还没出什么成绩，把他挖到清微半导体或者山腰科技都是不错的选择，反正留给台积电或者三星可就是严重资敌了，那可就十分不好了，仓耀祖可不想给自己增加难度。人情、金钱、股份齐上，不惜代价也要拿下他啊。
除了胡正明教授这个FinFET之父外，仓耀祖想要挖的还有两个人，一个是华夏刻蚀机之父尹志尧，一个就是林本坚。
刻蚀机不说了，虽然没有光刻机重要，但也是半导体行业不可或缺的重要设备。光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备是芯片制造过程中的三大核心设备，如果把芯片比作一幅平面雕刻作品，那么光刻机是打草稿的画笔，刻蚀机是雕刻刀，沉积的薄膜则是构成作品的材料。
光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸，刻蚀和薄膜沉积的精度则决定了光刻的尺寸能否实际加工，因此光刻、刻蚀和薄膜沉积设备是芯片加工过程中最重要的三类主设备。
那一世，直到2004年尹志尧才回国创建了中微半导体，这一世，仓耀祖希望提前促成这件事情，嗯，缺人挖人，缺钱投钱，砸也砸出一个刻蚀机头部企业。
而林本坚，他就是那一世台积电如厮强横的一大保证了，仓耀祖教给清微半导体的浸入式光刻技术就是林本坚提出并坚持推动的结果。
其实浸入式光刻技术在1984年就由日本人Takanashi在一项美国专利中提出了，他定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。
发明专利的时效只有20年，只可惜这项专利诞生的“过早”，前世真正意义上的浸入式光刻要在若干年后才会出现，Takanashi也因此与巨额专利费擦肩而过。
但这一世呢，仓耀祖已经让葛栗琴的律师事务所买断了这个专利，虽然专利时效只有不到8年了，但8年时间也足够了。
现在的浸入式光刻之所以不被重视，是因为人们找不到好的浸入液，比如浸入液是环辛烷的话。浸入液的充入、镜头的沾污、光刻胶的稳定性和气泡的伤害等关键问题很难解决，因此，人们对浸入式光刻并没有什么深入的研究。
现在的主流技术是干式光刻，无论是尼康、佳能还是阿斯麦都是如此。如果能找到好的浸入液，那么，在高端光刻领域，浸没式光刻就是干法光刻的完美替代技术，而新旧技术的替代带来的就是光刻机的完全垄断。
林本坚在2002年后提出了以折射率为1.44的去离子水为浸入液的方案，比较完美地解决了浸入式光刻的其它问题，此举彻底改变了光刻行业以及整个半导体行业。这是一项很伟大的改进，可以说，打败尼康光刻机和佳能光刻机的就是这简单而又神奇的去离子水。
什么是去离子水呢，就是去除了离子的水。因为水是一种万能的溶剂，在自然界的水中会溶解有很多种类的盐类，而这些盐类在水中均有一定程度的电离现象，从而产生很多种类的阴阳离子。所以，溶解了盐类物质的水是可以导电的，这不利于光刻的进行。
那去离子水就不导电了吗？当然还是导电的，只不过去离子水的导电能力就很弱了，是介于导电体和绝缘体之间的半导体。
林本坚生于1942年，祖籍潮汕，长于西贡，求学于湾湾，就职于IBM22年，1992年他50岁时提前退休，现在创建了领创公司。
仓耀祖准备这两天就亲自去见见林本坚先生，并收购他的领创公司，为邀请他加盟清微半导体扫清障碍，铺平道路。
仓耀祖盯上湾湾那边的半导体人才也是没办法的事情，主要是国内这方面的人才培养出现了断层，确实是没有什么能独当一面的人物，因为实在是没有这个成长环境啊。
基本上把半导体领域的事情搞了个大概以后，仓耀祖就放松了下来。要说老老实实搞搞互联网，轻松简单还来钱快，多好的事情啊，可是不谋万世者不足谋一时，不谋全局者不足谋一域。
互联网企业发展到最后是什么呢，坐吃山空，轰然倒塌吗？亚马逊最后还是在网络上卖书吗？从图书到各种品类，从纸质图书到电子图书，再到电子书阅读器硬件，数据中心，云计算、流媒体、影视、人工智能，生物医药。。。
一家巨头公司崛起之后，会甘于困守一域吗？不可能的，横向扩张是必然的选择。
那么仓耀祖现在所做的更多，就是为了以后了，他可不想像威盛、中兴、华为那样被人掐住脖子摁在地上摩擦，太憋屈了。
既然如此那就从现在做起。半导体、影视、互联网，硬件、内容和新媒体渠道联动，最大限度地联动，仓耀祖还有一个计划就是纯电汽车，特斯拉的域名和商标他早就注册好了的，只是还没启动而已。
后世华夏比较欠缺的两大样，一个是光刻机，另一个就是发动机了，要知道到2020年代，华夏要进口3000多亿美金的芯片，还要进口3000多亿美金的原油，这是很大的两块儿外汇支出。
因为瓦森纳协定的关系，半导体行业华夏发展起来举步维艰，因此仓耀祖就想通过清微半导体，以浸入式光刻技术和双重成像技术来诈称技术突破，在打乱西方光刻机研发节奏的同时，也是希望阿斯麦、尼康、佳能等光刻机公司投入更多的资金来研发下一代光刻机，等他们资金链紧张了，看他们会不会继续禁止出口光刻机给华夏的企业。
毕竟以前有例可循，一旦华夏研发取得突破，西方的成熟技术产品就会大批量砸掉华夏研发技术的市场，让华夏的后续研发成为无水之源，因为缺乏资金而放弃继续研发，毕竟只投入没产出的事情谁也受不了啊，心态绝对会崩。
这就是半导体这块儿仓耀祖的骚操作，当然只靠这些小花招，也许能蒙蔽一时，长久之下还是会曝光的，但仓耀祖要的也就是一时的蒙蔽，只要那几家公司上当那么一下下，华夏的困局就能解开很多。而距离EUV极紫外光刻机的商用，差不多还要二十年，华夏加大这方面的研发力度的话，研发进程是完全能赶上来的，毕竟，华夏在激光光源这块还是挺强的。
EUV光刻机的极紫外光源主要采用的是将二氧化碳激光照射到锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源，这种光源具有光学质量近乎完美、高速且完全相同的脉冲，具有半导体行业所要求的清洁度、精确度和可重复性。
激光光源好解决，难的是那近3万个机械零件，有顶级的镜头和光源，没极致的机械精度，也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。
不管多难吧，只要有了一定的基础，再来发动全国的研发力量，突破总是会越来越多的，一家公司肯定是干不成，那就大家一起干好了，不就是砸钱嘛，当然，这个钱不能仓耀祖来砸，他还要在米国这边混呢。
仓耀祖只能是出出馊主意，然后一切的一切都交给杨斯正和倪光南来做，让他们去向国家要钱要政策，讲明利弊和未来的发展形势，保证投入必有产出，即使没产出也能逼迫西方国家放松设备出口以抢占华夏的光刻机市场，投入个几十亿美金，相比于以后每年那几千亿美金的支出，怎么讲都是划算的。
仓耀祖也给杨斯正和清微半导体指明了方向，浸没式光刻，双重成像技术，反射镜代替透镜技术，磁悬浮驱动技术，真空腔体的极紫外光系统，反正仓耀祖把他知道的统统都倒给了老杨，能做成什么样，说实在的他也使不上太大力气了，毕竟他也不是这个专业的，也不能现转专业去搞科研吧。
明面上，仓耀祖和清微半导体是没有任何关系的，股份一点儿不占，职位更是没有，砸钱那是不可能的，最少明面上不可能。挖人也是为杨斯正挖的，关系必须撇清。这也算是仓耀祖的未雨绸缪吧。
至于电动汽车的研发，特斯拉仓耀祖当然也是不会放过的，他很早就让葛栗琴找到了马丁·艾伯哈德，他现在正要和马克·塔彭宁一起创立NuvoMedia新媒体公司，这家公司会在明年发布RocketeBook电子书，可以说是世界上的第一款电子书了。
马丁·艾伯哈德和马克·塔彭宁会在2003年一起创立特斯拉公司，然后打拼几年之后被埃隆·马斯克赶出了公司，埃隆·马斯克把特斯拉的五位创始人中的其他四位都踢出了公司，资本的力量真可怕啊。
葛栗琴明天就会带着这两个人过来和仓耀祖见面，这两个人现在硅谷，他们正在寻找资金来投资建立新媒体公司，仓耀祖收购的Newton公司的一些技术也可以转授权给他们，加快电子书开发的进程。
另外，说到电子书，就不得不提电子墨水技术，掌握这项技术的Eink公司现在还没有创建，应该还在麻省理工学院搞研发呢，嗯，这家公司也必须投资啊，要投资的公司还真多呢。
这方方面面的事情是真多啊，看来仓耀祖也要组建秘书团队了，让栗姐帮忙招人吧，最好是养眼一点，身边妹子多，男士是谢绝的，要知道堡垒往往都是从内部被攻破的。
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